无氧烤箱GM-60D和洁净烤箱MOL-2DS的主要区别如下：
功能与应用场景
无氧烤箱GM-60D：
主要用于需要在无氧环境中进行的工艺，如IC封装、晶体管、传感器、石英晶体振荡器等，防止材料在高温下氧化。
含氧量极低，≤20PPM，适用于对氧化敏感的材料。
洁净烤箱MOL-2DS：
主要用于需要高洁净度的工艺，如晶圆、电子元器件的固化、封装后烘烤等。
内部洁净等级可达Class 100，适用于对微尘敏感的工艺。
温度范围与控制精度
无氧烤箱GM-60D：
温度范围为60℃~550℃。
温度均匀度为±2.5℃@200℃，±5℃@350℃。
洁净烤箱MOL-2DS：
温度范围为常温~250℃。
温度均匀度为±1.5%℃，最佳可达±1℃。
结构与设计
无氧烤箱GM-60D：
单门立式结构，控制柜位于箱体上方。
内胆采用SUS304镜面不锈钢，外壳为SUS304拉丝不锈钢。
洁净烤箱MOL-2DS：
双门双控设计，控制箱位于机台右方。
内胆采用SUS304镜面不锈钢，外箱为SS41冷轧钢板。
气体控制
无氧烤箱GM-60D：
使用惰性气体（如氮气）填充，确保无氧环境。
洁净烤箱MOL-2DS：
可接氮气或洁净干燥气体，但主要功能是保持洁净。
洁净等级
无氧烤箱GM-60D：
洁净等级未明确提及，但通常适用于无氧环境。
洁净烤箱MOL-2DS：
内部洁净等级可达Class 100，适合高洁净度需求。
其他特点
无氧烤箱GM-60D：
升温速度快，常温到400℃的升温速度>6℃/min。
运行噪音≤65dB。
洁净烤箱MOL-2DS：
升温到200℃约需40分钟。
采用HEPA高效过滤器，过滤效率99.99%。
总结
如果工艺需要在无氧环境中进行，且温度要求较高（如超过250℃），则选择无氧烤箱GM-60D。
如果工艺对洁净度要求极高（如Class 100），且温度需求在250℃以下，则选择洁净烤箱MOL-2DS。
